材料制备平台

主要用途:

材料制备平台能够利用多种前沿的材料生长技术手段(激光分子束外延、热源分子束外延、脉冲激光沉积、磁控溅射、化学气相沉积等),在原子尺度范围(0.1nm)实现半导体、金属、金属氧化物薄膜以及超导薄膜外延、原位多层膜和超晶格等异质结界面构筑、二维量子等材料的制备,可为探究新奇高效多功能电子原型器件提供良好的实验基础。

                                              

高温箱式炉

设备介绍

高温管式炉

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脉冲激光沉积与磁控溅射联合系统

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分子束外延与原位表征联合系统

设备介绍

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